[发明专利]光致抗蚀剂剥离剂在审
申请号: | 201310498947.5 | 申请日: | 2013-10-23 |
公开(公告)号: | CN103529657A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 杨桂望 | 申请(专利权)人: | 杨桂望 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266000 山东省青岛*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供了一种新型的光致抗蚀剂剥离剂,其包括N-乙基氨基甲酸乙酯、乙二醇单丁醚、没食子酸、有机溶剂和防腐蚀剂。其在剥离用于布图电子电路或显示元件金属布线的光致抗蚀剂的过程中,不腐蚀金属布线,特别是不腐蚀铝(aluminum)、钼(molybdenum)、铜(copper)、钛(titanium)等金属,且具有优秀的光致抗蚀剂剥离性的光致抗蚀剂剥离剂组合物。 | ||
搜索关键词: | 光致抗蚀剂 剥离 | ||
【主权项】:
一种新型的光致抗蚀剂剥离剂,其特征在于:包括N‑乙基氨基甲酸乙酯、乙二醇单丁醚、没食子酸、有机溶剂和防腐蚀剂。
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