[发明专利]一种超透镜结构及其成像方法

摘要

本发明公开了一种超透镜结构及其成像方法，所述超透镜结构从上而下依次包括透明的第一基底层、掩膜层、PMMA间隔层、共振腔结构及第二基底层，其特征在于，所述掩膜层上设置有成像物体，所述共振腔结构为表面等离子体激元的共振腔结构，共振腔结构从上而下包括第一金属层、光刻胶层和第二金属层。本发明可以通过调节光刻胶层的厚度来提高成像分辨率，并借助共振效应拓展成像深度，从而提高成像质量。可以突破传统超透镜成像技术在分辨率改善、成像深度提高等方面的局限性，可为大区域及任意形状的二维成像光刻开辟了新的道路。

主权项

一种超透镜结构，所述超透镜结构从上而下依次包括透明的第一基底层、掩膜层、PMMA间隔层、共振腔结构及第二基底层，其特征在于，所述掩膜层上设置有成像物体，所述共振腔结构为表面等离子体激元的共振腔结构，共振腔结构从上而下包括第一金属层、光刻胶层和第二金属层。