[发明专利]硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置有效

专利信息
申请号: 201310503142.5 申请日: 2013-10-23
公开(公告)号: CN103846813A 公开(公告)日: 2014-06-11
发明(设计)人: 郭金娥;徐信富;徐力;陈兴邦 申请(专利权)人: 洛阳市鼎晶电子材料有限公司
主分类号: B24C3/12 分类号: B24C3/12;B24C9/00
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 471003 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明是有关于一种硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置,其包括:金刚砂喷嘴、喷嘴移动装置、除尘风橱、硅片传送带、金刚砂料罐以及第一粉尘收集罐;其中,所述金刚砂喷嘴设置于所述喷嘴移动装置上,并且设置于所述硅片传送带的上方,能够在所述喷嘴移动装置的作用下在所述硅片传送带的上方左右移动;所述除尘风橱设置于所述硅片传送带的上方,并且由所述硅片传送带的上方向下延伸至所述硅片传送带的上表面,所述金刚砂喷嘴设置于所述除尘风橱内;在所述除尘风橱的顶部设有通孔,所述除尘风橱通过所述通孔与所述第一粉尘收集罐通过管道连通;所述金刚砂喷嘴通过管道与所述金刚砂料罐连通。
搜索关键词: 硅片 背面 喷砂 制造 吸杂源 消除 抛光 表面 氧化 装置
【主权项】:
一种硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置,其特征在于其包括:金刚砂喷嘴、喷嘴移动装置、除尘风橱、硅片传送带、金刚砂料罐以及第一粉尘收集罐;其中,所述金刚砂喷嘴设置于所述喷嘴移动装置上,并且设置于所述硅片传送带的上方,能够在所述喷嘴移动装置的作用下在所述硅片传送带的上方左右移动;所述除尘风橱设置于所述硅片传送带的上方,并且由所述硅片传送带的上方向下延伸至所述硅片传送带的上表面,所述金刚砂喷嘴设置于所述除尘风橱内;在所述除尘风橱的顶部设有通孔,所述除尘风橱通过所述通孔与所述第一粉尘收集罐通过管道连通;所述金刚砂喷嘴通过管道与所述金刚砂料罐连通。
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