[发明专利]一种自适应磁场调整型磁控溅射镀膜设备及其镀膜方法有效
| 申请号： | 201310503683.8 | 申请日： | 2013-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN103556122B | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | 马栋梁;崔德国 | 申请（专利权）人： | 苏州矩阵光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250 | 代理人： | 彭秀丽 |
| 地址： | 215614 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明所述的自适应磁场调整型磁控溅射镀膜设备，相邻所述永磁铁之间设置有通电线圈，在所述通电线圈和所述磁轭之间设置有霍尔传感器，所述通电线圈的长度方向与所述永磁铁磁极方向垂直；所述霍尔传感器外接磁场强度侦测系统，用于磁场强度的实时监测；所述通电线圈外接电路控制模块，所述电路控制模块与所述磁场强度侦测系统电连接，根据所述磁场强度侦测系统的数据调整流经通电线圈的电流，以改变磁场分布，使得磁场一直处于最优化的状态，即磁力线尽量与靶面处于同一平面，以达到靶材利用率最大的效果；而且，镀膜过程中，磁场强度可以实时监测进行调整，无需间断镀膜过程，生产效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 自适应 磁场 调整 磁控溅射 镀膜 设备 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种自适应磁场调整型磁控溅射镀膜设备，包括腔室，平行且依次设置在腔室内的基片、靶材和磁轭，以及靠近靶材且直接设置在磁轭上的若干永磁铁，相邻永磁铁的磁极方向相反，永磁铁的磁极方向垂直于靶材；其特征在于，相邻所述永磁铁之间还设置有通电线圈，以及固定设置在所述通电线圈和所述磁轭之间的霍尔传感器，所述通电线圈的长度方向与所述永磁铁磁极方向垂直；所述霍尔传感器外接磁场强度侦测系统，用于磁场强度的实时监测；所述通电线圈外接电路控制模块，所述电路控制模块与所述磁场强度侦测系统电连接，根据所述磁场强度侦测系统的数据调整流经通电线圈的电流，以改变磁场分布；所述通电线圈在相邻所述永磁铁之间居中设置；所述霍尔传感器相对于所述通电线圈居中设置。
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