[发明专利]一种12英寸硅片的双面抛光方法有效
| 申请号： | 201310504884.X | 申请日： | 2013-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN104551961A | 公开（公告）日： | 2015-04-29 |
| 发明（设计）人： | 王永涛;闫志瑞;库黎明;冯泉林;葛钟 | 申请（专利权）人： | 有研新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B57/02;B24B53/017 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘秀青;熊国裕 |
| 地址： | 100088 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种12英寸硅片的双面抛光方法，包括以下步骤：(1)将硅片置于抛光机的游轮片内，在太阳轮和外齿圈的带动下，相对于上、下抛光垫运动，交替改变游轮片的自转方向，对硅片表面进行抛光加工；(2)每抛光1～3小时，使用刷盘对上、下抛光垫进行刷洗，刷洗过程中，向抛光垫喷撒纯水；(3)每抛光12～24小时，使用金刚石修整器对上、下抛光垫进行修整，修整过程中，向抛光垫喷撒纯水。本发明通过改变游轮片的自转方向，可以有效地改善抛光垫中心和边缘磨损量不同的现象，同时通过刷盘，有效清除抛光垫表面的杂质残留，减缓抛光垫釉化速度，从而可以降低硅片的片内及片间非均匀性，减少抛光垫修整次数，提升抛光过程的稳定性，并降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 12 英寸 硅片 双面 抛光 方法 | ||
【主权项】：
一种12英寸硅片的双面抛光方法，其特征在于，该方法包括以下步骤： (1)将硅片置于抛光机的游轮片内，在太阳轮和外齿圈的带动下，相对于上、下抛光垫运动，交替改变游轮片的自转方向，对硅片表面进行抛光加工； (2)每抛光1～3小时，使用刷盘对上、下抛光垫进行刷洗，刷洗过程中，通过抛光液管道向抛光垫喷撒纯水； (3)每抛光12～24小时，使用金刚石修整器对上、下抛光垫进行修整，修整过程中，通过抛光液管道向抛光垫喷撒纯水。
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