[发明专利]LPCVD设备的温控系统自校正方法与装置有效
申请号: | 201310504946.7 | 申请日: | 2013-10-23 |
公开(公告)号: | CN103576672A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 王峰;张乾 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | G05B23/02 | 分类号: | G05B23/02;G05B13/04 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 100015 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种LPCVD设备的温控系统自校正方法,包括:对LPCVD设备各个温控区建立包含时滞误差的PID控制模型;建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项的自校正调节项模型,并确定已建立的权重系数取值范围;建立监督控制项,用于加强控制系统的稳定性。同时,本发明也公开了一种LPCVD设备的温控系统自校正装置,包括:控制模型模块,用于建立LPCVD设备各个温控区的包含时滞误差的PID控制模型;权重PID控制模型模块,用于建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项模型,并确定已建立的权值系数取值范围;监督模块,用于加强系统的稳定性。通过此种设计,提高了PID控制模型参数设置的准确性。 | ||
搜索关键词: | lpcvd 设备 温控 系统 校正 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种LPCVD设备的温控系统自校正方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:1)对LPCVD设备各个温控区建立包含时滞误差的PID控制模型;2)建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项的自校正调节项模型,并确定已建立的权重系数取值范围;3)建立监督控制项,用于加强LPCVD设备的温控系统的稳定性。
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