[发明专利]能降低超辐射发光二极管光谱波纹的芯片结构有效

专利信息
申请号: 201310507954.7 申请日: 2013-10-25
公开(公告)号: CN103515494A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 唐祖荣;周勇;杨晓波;罗洪静;王华平;孙迎波 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 重庆辉腾律师事务所 50215 代理人: 侯懋琪;侯春乐
地址: 400060 重庆*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 一种能降低超辐射发光二极管光谱波纹的芯片结构,包括超辐射发光二极管芯片,所述超辐射发光二极管芯片由顺次层叠的N面电极层、衬底层、缓冲层、下限制层、下波导层、有源层、上波导层、上限制层、顶层、电隔离层和P面电极层组成,其中,N面电极层所在端面为超辐射发光二极管芯片的下端面,P面电极层所在端面为超辐射发光二极管芯片的上端面;超辐射发光二极管芯片上端面设置有无源吸收区和有源区;其改进在于:所述无源吸收区范围内的P面电极层与N面电极层通过外接引线短接。本发明的有益技术效果是:可有效收集和消除无源吸收区内的电子空穴对,避免无源吸收区抑制光反馈能力随着输出功率增大而下降,提高超辐射发光二极管的性能。
搜索关键词: 降低 辐射 发光二极管 光谱 波纹 芯片 结构
【主权项】:
一种能降低超辐射发光二极管光谱波纹的芯片结构,包括超辐射发光二极管芯片,所述超辐射发光二极管芯片由顺次层叠的N面电极层(1)、衬底层(2)、缓冲层(3)、下限制层(4)、下波导层(5)、有源层(6)、上波导层(7)、上限制层(8)、顶层(9)、电隔离层(10)和P面电极层(11)组成,其中,N面电极层(1)所在端面为超辐射发光二极管芯片的下端面,P面电极层(11)所在端面为超辐射发光二极管芯片的上端面;超辐射发光二极管芯片上端面设置有无源吸收区(12)和有源区(13);其特征在于:所述无源吸收区(12)范围内的P面电极层(11)与N面电极层(1)通过外接引线短接。
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