[发明专利]一种自参考散射测量装置及方法在审
| 申请号： | 201310518199.2 | 申请日： | 2013-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN104570616A | 公开（公告）日： | 2015-04-29 |
| 发明（设计）人： | 陆海亮;王帆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/66;G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种自参考散射测量装置，其特征在于包括：辐射光源；分束镜，将照明光分为第一照明光束和第二照明光束；物镜，将所述第一照明光束汇聚到基底表面，并收集基底表面反射/衍射的光；二维阵列探测器，位于物镜光瞳位置的共轭面，用于测量所述基底表面反射/衍射光的角分辨谱光斑；成像系统，将所述物镜的光瞳成像到所述探测器；以及反射系统，至少包括两个倾斜反射面，其等效反射面位于物镜光瞳的共轭面，用于使所述第二照明光的光轴发生偏转，并将所述第二照明光反射后经所述成像系统成像到所述二维阵列探测器上，所述二维阵列探测器同时测得所述第二照明光束形成的监测光斑和所述基底表面反射/衍射的第一照明光束在所述物镜光瞳形成的角分辨谱光斑。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 参考 散射 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种自参考散射测量装置，用于测量基底性能参数，其特征在于包括：辐射光源，用于产生照明光；分束镜，用于将所述照明照明光分为第一照明光束和第二照明光束；物镜，将所述第一照明光束汇聚到基底表面，并收集基底表面反射/衍射的光；二维阵列探测器，位于物镜光瞳位置的共轭面，用于测量所述基底表面反射/衍射光的角分辨谱光斑；成像系统，将所述物镜的光瞳成像到所述探测器；以及反射系统，至少包括两个倾斜反射面，其等效反射面位于物镜光瞳的共轭面，用于使所述第二照明光的光轴发生偏转，并将所述第二照明光反射后经所述成像系统成像到所述二维阵列探测器上，所述二维阵列探测器同时测得所述第二照明光束形成的监测光斑和所述基底表面反射/衍射的第一照明光束在所述物镜光瞳形成的角分辨谱光斑。
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