[发明专利]等离子体生成装置组件、电弧缓解装置和组装方法有效
| 申请号： | 201310523249.6 | 申请日： | 2013-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN103796409B | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | R.库马;S.N.帕尔瓦迪;S.S.帕楚努里 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 肖日松,谭祐祥 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及等离子体生成装置组件、电弧缓解装置和组装方法。更具体而言，一种等离子体生成装置组件(302)包括基体(308)，该基体包括顶表面(310)。等离子体生成装置组件还包括等离子体生成装置(206)和多个联接部件(326)。等离子体生成装置包括多个等离子体生成装置端子(324)。等离子体生成装置定位于顶表面上，并且配置成在等离子体生成装置被启动时发射烧蚀等离子体。多个联接部件配置成将等离子体生成装置联接到顶表面。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 生成 装置 组件 电弧 缓解 组装 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体生成装置组件(302)，包括：基体(308)，其包括顶表面(310)；等离子体生成装置(206)，其包括：主体(402)，其由烧蚀材料整体地形成,所述主体(402)包括形成于所述主体(402)的顶表面内的至少一个槽(320)；以及联接到所述主体的多个等离子体生成装置端子(324)，所述等离子体生成装置定位于所述基体的顶表面上并且配置成当所述等离子体生成装置被启动时发射烧蚀等离子体；多个联接部件(326)，其配置成将所述等离子体生成装置联接到所述基体的顶表面；以及槽覆盖物(424)，其配置成联接到所述主体(402)且至少部分地覆盖所述至少一个槽(320)。
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