[发明专利]电感耦合型等离子体处理装置及其自感应线圈在审
| 申请号： | 201310526140.8 | 申请日： | 2013-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN104602434A | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 倪图强;周宁;王俊 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种电感耦合型等离子体处理装置及其自感应线圈，其中，所述电感耦合型等离子体处理装置包括一封闭壳体，其包括顶板。所述电感耦合型等离子体处理装置包括位于所述顶板上的电感耦合线圈，所述电感耦合线圈对应于所述基片多个区域划分为多个区域，以发射射频能量到所述封闭壳体内，至少两个区域的电感耦合线圈之间设置有至少一个自感应线圈，当电感耦合线圈通电时，所述自感应线圈自感应出与和相邻的电感耦合线圈方向相反的电流，以产生和相邻的电感耦合线圈方向相反的磁场，其中，所述自感应线圈是电浮地的。本发明能够改善基片制程均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子体 处理 装置 及其 自感应 线圈 | ||
【主权项】：
一种用于电感耦合型等离子体处理装置的自感应线圈，其中，所述电感耦合型等离子体处理装置包括一封闭壳体，其包括顶板，其特征在于： 所述电感耦合型等离子体处理装置包括位于所述顶板上的电感耦合线圈，所述电感耦合线圈对应于所述基片多个区域划分为多个区域，以发射射频能量到所述封闭壳体内， 至少两个区域的电感耦合线圈之间设置有至少一个自感应线圈，当电感耦合线圈通电时，所述自感应线圈自感应出与和相邻的电感耦合线圈方向相反的电流，以产生和相邻的电感耦合线圈方向相反的磁场， 其中，所述自感应线圈是电浮地的。
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