[发明专利]防止污渍的光刻胶剥离剂组合物及平板显示器基板的制法在审
| 申请号： | 201310530582.X | 申请日： | 2013-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN103809396A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 高京俊;慎蕙蠃;李喻珍 | 申请（专利权）人： | 东友FINE-CHEM股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 武晨燕;胡春光 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种防止污渍的光刻胶剥离剂组合物以及一种制造平板显示器基板的方法，所述光刻胶剥离剂组合物包含：（a）由下面的化学式1所表示的二醇醚；（b）碱性化合物；（c）非质子性极性溶剂；以及（d）抗腐蚀剂：R-(OCH2CH2)n-OH （1），其中，R是甲基或乙基，且n是2或3的整数，其中，所述二醇醚具有由下面的等式1计算出的负值的辛醇/水分配系数（LogP）：Kow=Co/Cw，Co：溶质在辛醇中的浓度，Cw：溶质在水中的浓度，LogP（分配系数）=Log(Kow)。 | ||
| 搜索关键词： | 防止 污渍 光刻 剥离 组合 平板 显示器 制法 | ||
【主权项】：
一种防止污渍的光刻胶剥离剂组合物，包含：（a）由下面的化学式1所表示的二醇醚；（b）碱性化合物；（c）非质子性极性溶剂；以及（d）抗腐蚀剂：R‑(OCH2CH2)n‑OH （1）其中，R是甲基或乙基，且n是2或3的整数，其中所述二醇醚具有由下面的等式1计算出的负值的辛醇/水分配系数LogP：Kow=Co/CwCo：溶质在辛醇中的浓度Cw：溶质在水中的浓度LogP=Log(Kow)。
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