[发明专利]用于互连结构的夹入式扩散阻挡和金属衬垫无效
申请号: | 201310533923.9 | 申请日: | 2013-10-30 |
公开(公告)号: | CN103839882A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 牛成玉;A·H·西蒙;T·博洛姆 | 申请(专利权)人: | 意法半导体公司;国际商业机器公司;格罗方德公司 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L23/538 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;张宁 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 在电介质层中开出沟槽。然后利用夹入式的扩散阻挡和金属衬垫结构对沟槽进行加衬。夹入式的扩散阻挡和金属衬垫结构包括夹在第一扩散阻挡层和第二扩散阻挡层之间的保形金属衬垫层。金属种子层至少是轻掺杂的。然后通过利用金属填充材料进行电镀来填充加衬的沟槽。然后在金属填充的沟槽上方沉积电介质帽层。然后使来自掺杂的金属种子层的掺杂剂迁移到金属填充的沟槽与电介质帽层之间的界面,以形成自对准金属帽。 | ||
搜索关键词: | 用于 互连 结构 夹入 扩散 阻挡 金属 衬垫 | ||
【主权项】:
一种方法,包括:在介电层中开出沟槽;利用第一扩散阻挡层对所述沟槽进行加衬;利用第一保形金属衬垫层对所述沟槽进行加衬;利用第二扩散阻挡层对所述沟槽进行加衬;利用金属种子层对所述沟槽进行加衬;以及利用金属填充对所述沟槽进行填充。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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