[发明专利]曝光及显影设备以及曝光及显影方法在审
| 申请号： | 201310534987.0 | 申请日： | 2013-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN104597716A | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 黄昱嘉;杨靖哲 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李昕巍;吕俊清 |
| 地址： | 201500 上海市金*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本公开提供一种曝光及显影设备以及曝光及显影方法。该曝光及显影设备包括：边缘曝光装置，用于对基板的边缘进行曝光；显影装置，用于对曝光后的基板进行显影，该边缘曝光装置位于该显影装置的入口处；其中，该基板在被输送至该显影装置的过程中，被该边缘曝光装置进行边缘曝光。由于在显影装置的入口处设置边缘曝光装置，基板在进入显影装置的过程中即可同时完成边缘曝光，因此不必多次搬送基板，可缩短工序，大幅提高加工效率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 显影 设备 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光及显影设备，包括：边缘曝光装置，用于对基板的边缘进行曝光；显影装置，用于对曝光后的基板进行显影，该边缘曝光装置位于该显影装置的入口处；其中，该基板在被输送至该显影装置的过程中，被该边缘曝光装置进行边缘曝光。
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