[发明专利]聚光图案形成组件、曝光方法以及元件制造方法在审
申请号: | 201310535482.6 | 申请日: | 2008-03-26 |
公开(公告)号: | CN103728841A | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 登道男 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁 |
地址: | 日本东京都千代*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种曝光方法,可转印微细图案。该曝光方法包括第1曝光步骤以及第2曝光步骤,其中,上述第1曝光步骤是对以接近于基板(P)的方式而配置的掩膜(10)照射曝光光,将形成于该掩膜上的规定的图案曝光于基板上,上述第2曝光步骤是对以接近于上述基板的方式而配置、且具备多个聚光部(20a、20b)的聚光图案形成组件(20)照射曝光光,将规定形状的聚光图案曝光于上述基板上。经上述第1曝光步骤而曝光的规定的图案的至少一部分、与经上述第2曝光步骤而形成的上述聚光图案的至少一部分相重叠。 | ||
搜索关键词: | 聚光 图案 形成 组件 曝光 方法 以及 元件 制造 | ||
【主权项】:
一种聚光图案形成装置,其特征在于包括:照明部,配置于第1面,照射照明光至具有遮光部与光通过部的图案;以及多个聚光部,以经由上述光通过部的照明光,于被曝光体上形成聚光图案,上述聚光图案形成装置调整上述照明光的主光线与上述聚光部的光轴的相对角度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310535482.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:单缸柴油机气缸盖
- 下一篇:一种发动机除积碳设备