[发明专利]聚光图案形成组件、曝光方法以及元件制造方法在审

专利信息
申请号: 201310535482.6 申请日: 2008-03-26
公开(公告)号: CN103728841A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 登道男 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁
地址: 日本东京都千代*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种曝光方法,可转印微细图案。该曝光方法包括第1曝光步骤以及第2曝光步骤,其中,上述第1曝光步骤是对以接近于基板(P)的方式而配置的掩膜(10)照射曝光光,将形成于该掩膜上的规定的图案曝光于基板上,上述第2曝光步骤是对以接近于上述基板的方式而配置、且具备多个聚光部(20a、20b)的聚光图案形成组件(20)照射曝光光,将规定形状的聚光图案曝光于上述基板上。经上述第1曝光步骤而曝光的规定的图案的至少一部分、与经上述第2曝光步骤而形成的上述聚光图案的至少一部分相重叠。
搜索关键词: 聚光 图案 形成 组件 曝光 方法 以及 元件 制造
【主权项】:
一种聚光图案形成装置,其特征在于包括:照明部,配置于第1面,照射照明光至具有遮光部与光通过部的图案;以及多个聚光部,以经由上述光通过部的照明光,于被曝光体上形成聚光图案,上述聚光图案形成装置调整上述照明光的主光线与上述聚光部的光轴的相对角度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310535482.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top