[发明专利]硬掩模组合物的单体、硬掩模组合物及形成图案的方法有效

专利信息
申请号: 201310535509.1 申请日: 2013-11-01
公开(公告)号: CN103910610A 公开(公告)日: 2014-07-09
发明(设计)人: 李范珍;金润俊;赵娟振 申请(专利权)人: 第一毛织株式会社
主分类号: C07C39/12 分类号: C07C39/12;G03F7/004;G03F7/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;张英
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明披露了一种硬掩模组合物的单体、硬掩模组合物及形成图案的方法。具体地,本发明披露了由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及利用硬掩模组合物来形成图案的方法。在化学式1中,A1至A4、X1至X3、M和n与在具体实施方式中描述的相同,[化学式1]
搜索关键词: 模组 单体 形成 图案 方法
【主权项】:
一种由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体:[化学式1]其中,在上述化学式1中,A1是脂族环状基团或芳族环状基团,A2至A4各自独立地为苯基,X1至X3各自独立地为羟基、亚硫酰基、硫醇基、氰基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C1至C20烷基胺基团、或取代或未取代的C1至C30烷氧基,M是CRa、SiRb、N、P、PRcRd、或PRe,以及n是范围为1至4的整数,条件是,在M中,Ra、Rb、Rc和Rd各自独立地为氢、取代或未取代的C1至C10烷基、卤素原子、含卤素基团、或它们的组合,以及Re是氧(O)或硫(S)。
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