[发明专利]硬掩模组合物的单体、硬掩模组合物及形成图案的方法有效
申请号: | 201310535509.1 | 申请日: | 2013-11-01 |
公开(公告)号: | CN103910610A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 李范珍;金润俊;赵娟振 | 申请(专利权)人: | 第一毛织株式会社 |
主分类号: | C07C39/12 | 分类号: | C07C39/12;G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;张英 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: |
本发明披露了一种硬掩模组合物的单体、硬掩模组合物及形成图案的方法。具体地,本发明披露了由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及利用硬掩模组合物来形成图案的方法。在化学式1中,A1至A4、X1至X3、M和n与在具体实施方式中描述的相同,[化学式1] |
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搜索关键词: | 模组 单体 形成 图案 方法 | ||
【主权项】:
一种由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体:[化学式1]
其中,在上述化学式1中,A1是脂族环状基团或芳族环状基团,A2至A4各自独立地为苯基,X1至X3各自独立地为羟基、亚硫酰基、硫醇基、氰基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C1至C20烷基胺基团、或取代或未取代的C1至C30烷氧基,M是CRa、SiRb、N、P、PRcRd、或PRe,以及n是范围为1至4的整数,条件是,在M中,Ra、Rb、Rc和Rd各自独立地为氢、取代或未取代的C1至C10烷基、卤素原子、含卤素基团、或它们的组合,以及Re是氧(O)或硫(S)。
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