[发明专利]釉下工笔国画雕刻五彩瓷制品的生产工艺

摘要

本发明公开一种釉下工笔国画雕刻五彩瓷制品的生产工艺，属艺术陶瓷制品的生产工艺领域，包括以下步骤进行：(1)设计；(2)制石膏原模；(3)绘画；(4)雕刻；(5)开模；(6)注浆；(7)整修洗水(8)素烧；(9)打磨；(10)上色：勾线、汾水、喷色；(11)烤色(12)上透明釉；(13)烧制。本发明将工笔国画工艺、雕刻工艺、釉下五彩上色工艺三者有机结合，使瓷制品的画面更精致，更有空间感、层次感、立体感，提升了瓷制品的艺术价值和产品附加值。

主权项

一种釉下工笔国画雕刻五彩瓷制品的生产工艺，其特征在于，其按以下步骤进行：(1)设计：按照艺术构思设计产品的器型、要表现的工笔国画花面；(2)制石膏原模：按原模石膏粉：模型器石膏粉＝65％‑75％：35％‑25％的重量比例将二者称重后混合，再按混合后的石膏粉：水＝(1.8‑2.2)：1的重量比加入水，将水与石膏粉混合均匀后形成石膏浆，将石膏浆倒入石膏车平机上车出产品原模器型；(3)绘画：在所述做好的石膏原模上用工笔国画的白描方法将所设计的工笔国画花面绘在原模器型表面上，所绘每条白描线条要相交闭合，以形成封闭的图形轮廓；(4)雕刻：雕刻时根据石膏原模上的白描稿线条上用刀，先把花面与器型结合的边缘刻画出来，即沿着花面边缘白描线条刻下一浅层，边缘刻下去后与无图案的光面通过斜面、弧面或倒圆角过度，达到过度平整自然，这浅层的雕刻深度为0.1mm‑0.3mm，然后再把花面中的图案部分相对该浅层做深层次雕刻，雕时要根据白描稿中的每根线条来雕刻，每根刻下的线条与周边平面之间雕出过度带，该过度带为斜面、弧面或倒圆角过度带，通过控制线条的雕刻深度及过度带的宽度及坡度或弧度使每个图案的层次清楚的表现出来，雕刻时最深的深度不超过3.5mm；在完成线条雕刻后，再在所刻线条框出的图案轮廓内根据设计要求对全部或部分图案进行面的浅削，浅削时最深的深度不大于3.0mm；(5)制模：在雕刻好的石膏原模器型上擦上脱模剂，再根据要求划好模线，用模型器石膏粉与水按照(1.28‑1.32)：1的重量比例制成石膏浆，根据划好的模线做出第一代原始模具，在脱模方便的基础上模具分片数不能过多，然后把分好的第一代原始模具刷上洋干柒，再擦上脱模剂保养，再用原模石膏粉与水按照1：(0.37‑0.38)的重量比例制成石膏浆倒入做好外围的第一代原始模具中翻制母模与模围，把母模与模围烤至五成干时再刷上洋干柒，擦上脱模剂保养2‑2.5小时，再制作若干个生产模具；(6)制浆与注浆：将成品泥制作成泥浆后采用离心注浆注入生产模具，所需泥浆含水率为28％‑35％、比重为1.73‑1.78克/立方厘米、流速为120‑130秒、 细度过150目筛、粘度3.3、H值7.9、变形度为12‑14、干收缩度为3％‑3.5％之间；(7)整修洗水：用刀片把注浆成型出来的泥坯半成品中的模线刮掉，然后用毛笔或海棉洗平整，有图案的部分不要过多的洗水，只要用毛笔或海棉轻轻带一下，如果图案有模糊的地方要用刀再刻画好，没图案的部分要洗平和光滑；(8)素烧：素烧温度在600‑650℃，烧成时间3.5‑4小时；(9)打磨：素烧好的半成品坯体一定要用先用800目的沙纸把坯体表面没有图案的地方打磨平整，特别是将整修洗水时留下笔痕和刀痕的地方打磨平整，再用1200目的沙纸二次打磨，使坯体表面光滑，然后上好内釉；(10)上色：先把素烧过的半成品坯体表面刷点水，使坯体表面无灰尘，上色用勾线、汾水与喷笔喷色工艺相结合，具体是：a、勾线：用勾线笔顺着坏体表面已有的工笔国画花面凹凸轮廓勾出图案的轮廓线，即将每一个图案的边缘用线笔画出工笔画稿，根据图案设计控制好的力度轻重、线条浓淡；b、汾水：采用汾水上色工艺，在坏体表面已有轮廓线的工笔国画花面中根据设计要求在需要上深色的图案填上所需的颜色；c、喷色：再就是用0.2‑0.5mm口径的喷笔在汾水填好色需要罩色的地方和只需上浅色的地方用喷笔喷色，完成工笔国画花面根据工艺艺术要求所需完成的颜色；(11)烤色：把上完色的产品再进窑炉进行烤色，烤色为800‑850℃，烤成时间为4‑4.5小时；(12)上透明釉：按磨好的釉料与水调好浓度为28‑32度、比重为1.24‑1.29克/立方厘米的透明釉，采用淋釉的方式上釉，然后再用口径为0.5mm的喷枪补釉，达到设计的上釉厚度；(13)烧制：制作高温1350‑1380℃还原火焰烧制的陶瓷产品和制作高温1180‑1200℃氧化火焰烧制的陶瓷产品；两种烧制方法如下制作高温1350‑1380℃还原火焰烧制的陶瓷产品时，烧成时间、方式为：a、干燥阶段以2‑4℃每秒的升温速度烧制2‑2.5小时，窑温升至480‑500℃；b、氧化烧阶段以3‑5℃每秒的升温速度烧制2‑2.5小时，窑温升至度920‑980 ℃开始转火保温0.5小时，做到坯体和釉中气体与有机物完全排出；c、强还原烧阶段，转火利用还原火焰以2‑3℃每秒的升温速度烧制1.5‑2.5小时，窑温升至1200‑1205度后开始慢慢升温；d、弱还原阶段，这时加大窑炉气压使其在弱还原气氛下以1‑1.5℃每秒的升温速度烧制2‑2.5小时，窑温升至1350‑1380℃并恒温0.5‑1小时关火；e、降温阶段为自然降温；降温后产品出窑便为成品；制作高温1180‑1200℃氧化火焰烧制的陶瓷产品时，烧成时间、方式为：a、干燥阶段以2‑4℃每秒的升温速度烧制2‑2.5小时，窑温升至480‑500℃；b、氧化烧阶段以3‑5℃每秒的升温速度烧制2‑2.5小时，窑温升至度920‑980℃保温0.5小时，这时不要转火；c、这一阶段一直以氧化火焰1‑2℃每秒的升温速度烧制2‑3小时，窑温升至1180‑1200℃并保温0.5‑1小时；d、降温阶段为自然降温；降温后产品出窑便为成品。