[发明专利]制备晶圆级全彩LED显示阵列的方法有效

专利信息
申请号: 201310553763.4 申请日: 2013-11-08
公开(公告)号: CN103579461A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 李璟;杨华;薛斌;王国宏;王军喜;李晋闽 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/50;H01L33/62;G09F9/33
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 曹玲柱
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种制备晶圆级全彩LED显示阵列的方法。该方法包括:步骤A,在衬底上生长GaN材料,制备GaN外延片;步骤B,通过深刻蚀工艺在所述GaN外延片上形成多个独立的LED结构;以及步骤F,对准不同列的LED结构,在蓝宝石衬底背面涂敷不同荧光粉,以形成红、绿、蓝LED芯片,从而形成晶圆级全彩LED显示阵列。本发明制备晶圆级全彩LED显示阵列的方法由逐列涂覆的荧光粉直接在LED蓝宝石wafer上实现全彩显示,从而实现了晶圆级LED显示阵列的像素尺寸小于500um。
搜索关键词: 制备 晶圆级 全彩 led 显示 阵列 方法
【主权项】:
一种制备晶圆级全彩LED显示阵列的方法,其特征在于,包括:步骤A,在衬底上生长GaN材料,制备GaN外延片;步骤B,通过深刻蚀工艺在所述GaN外延片上形成多个独立的LED结构;以及步骤F,对准不同列的LED结构,在蓝宝石衬底背面涂敷不同荧光粉,以形成红、绿、蓝LED芯片,从而形成晶圆级全彩LED显示阵列。
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