[发明专利]制备晶圆级全彩LED显示阵列的方法有效
申请号: | 201310553763.4 | 申请日: | 2013-11-08 |
公开(公告)号: | CN103579461A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 李璟;杨华;薛斌;王国宏;王军喜;李晋闽 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/50;H01L33/62;G09F9/33 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 曹玲柱 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种制备晶圆级全彩LED显示阵列的方法。该方法包括:步骤A,在衬底上生长GaN材料,制备GaN外延片;步骤B,通过深刻蚀工艺在所述GaN外延片上形成多个独立的LED结构;以及步骤F,对准不同列的LED结构,在蓝宝石衬底背面涂敷不同荧光粉,以形成红、绿、蓝LED芯片,从而形成晶圆级全彩LED显示阵列。本发明制备晶圆级全彩LED显示阵列的方法由逐列涂覆的荧光粉直接在LED蓝宝石wafer上实现全彩显示,从而实现了晶圆级LED显示阵列的像素尺寸小于500um。 | ||
搜索关键词: | 制备 晶圆级 全彩 led 显示 阵列 方法 | ||
【主权项】:
一种制备晶圆级全彩LED显示阵列的方法,其特征在于,包括:步骤A,在衬底上生长GaN材料,制备GaN外延片;步骤B,通过深刻蚀工艺在所述GaN外延片上形成多个独立的LED结构;以及步骤F,对准不同列的LED结构,在蓝宝石衬底背面涂敷不同荧光粉,以形成红、绿、蓝LED芯片,从而形成晶圆级全彩LED显示阵列。
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