[发明专利]一种喷胶单元吸盘的清洗装置及其清洗方法在审

专利信息
申请号: 201310553986.0 申请日: 2013-11-06
公开(公告)号: CN104624444A 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: 李晓明 申请(专利权)人: 沈阳芯源微电子设备有限公司
主分类号: B05C13/02 分类号: B05C13/02
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 何丽英
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于半导体制程中喷胶工艺技术领域,具体地说是一种喷胶单元吸盘的清洗装置及其清洗方法。所述装置包括旋转外环和隔环,其中旋转外环设置于吸盘的外侧边缘上,所述隔环设置于吸盘和旋转外环之间、并位于吸附于吸盘上的晶片的下方。所述方法是喷胶单元工作时,光刻胶将于晶片边缘流入隔环与旋转外环之间的区域,清洗时,将隔环和旋转外环取下清洗。本发明成本很低,在设备外清洗,不影响设备的正常运行。
搜索关键词: 一种 单元 吸盘 清洗 装置 及其 方法
【主权项】:
一种喷胶单元吸盘的清洗装置,其特征在于:包括旋转外环(3)和隔环(4),其中旋转外环(3)设置于吸盘(2)的外侧边缘上,所述隔环(4)设置于吸盘(2)和旋转外环(3)之间、并位于吸附于吸盘(2)上的晶片(1)的下方。
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