[发明专利]半导体封装件及其制造方法在审
申请号: | 201310554908.2 | 申请日: | 2013-11-08 |
公开(公告)号: | CN104637889A | 公开(公告)日: | 2015-05-20 |
发明(设计)人: | 蔡崇宣;谢爵安;叶名世;杨国玺 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L23/552;H01L21/50;H01L21/56 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆勍 |
地址: | 中国台湾高雄市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种半导体封装件及其制造方法。半导体封装件包括芯片、封装体、重布层及屏蔽层。芯片具有主动面。封装体包覆芯片。重布层包括介电层及导电层。介电层形成于封装体与芯片的主动面上并露出主动面的一部分。导电层形成于介电层上并电性连接于露出的主动面,其中导电层是作为阻抗匹配层。屏蔽层覆盖封装体的外表面并电性连接于导电层。 | ||
搜索关键词: | 半导体 封装 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体封装件,其特征在于,包括: 一芯片,具有一主动面; 一封装体,包覆该芯片; 一重布层,包括: 一第一介电层,形成于该封装体与该芯片的该主动面上并露出该主动面的一部分; 一第一导电层,形成于该第一介电层上并电性连接于露出的该主动面,其中该第一导电层是作为阻抗匹配层;及 一第二介电层,形成于该第一导电层上并露出该第一导电层的一部分;以及 一屏蔽层,覆盖该封装体的外表面并电性连接于该第一导电层。
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