[发明专利]一种碳基薄膜衰减滤光片的制备方法有效
| 申请号： | 201310555225.9 | 申请日： | 2013-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN103556114A | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 罗正钱;王莹;刘稹;卜轶坤;蔡志平 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/24 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005 *** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种碳基薄膜衰减滤光片的制备方法，涉及一种滤光片。提供一种工艺简单、膜系设计简单、稳定性好的一种碳基薄膜衰减滤光片的制备方法。将基底清洗；以石墨为靶材，使用等离子束溅射法，在基底上进行真空镀膜，得碳基薄膜衰减滤光片。所制备的碳基薄膜滤光片的膜系简单，稳定性好，且制备工艺简单。碳基薄膜与基底的附着力高。在可见光波长范围内碳膜具有比较平滑的衰减，同时保证较低的反射率以抑制杂散光；在近紫外，碳膜具有较高的衰减，可以部分替代UV镜的功能保护感光元件。碳基薄膜的厚度可以通过控制射频线圈功率、靶材偏压、溅射沉积时间来实现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 衰减 滤光 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种碳基薄膜衰减滤光片的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1）将基底清洗；2）以石墨为靶材，使用等离子束溅射法，在基底上进行真空镀膜，得碳基薄膜衰减滤光片。
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