[发明专利]一种光刻胶剥离液有效
申请号: | 201310561003.8 | 申请日: | 2013-11-12 |
公开(公告)号: | CN104635438B | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 刘兵;何春阳;孙广胜;黄达辉 | 申请(专利权)人: | 安集微电子科技(上海)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
本发明涉及一种光刻胶剥离液,包含季胺氢氧化物,环氧类有机溶剂,以及除所述环氧类有机溶剂以外的其它溶剂,该所述环氧类有机溶剂是指含有结构式I的环氧有机溶剂: |
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搜索关键词: | 一种 光刻 剥离 | ||
【主权项】:
一种光刻胶剥离液,包含季胺氢氧化物,环氧类有机溶剂,以及除所述环氧类有机溶剂以外的其它溶剂,且其中所述环氧类有机溶剂是指含有结构式I的环氧有机溶剂:
结构式I。
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