[发明专利]提高产品钝化层膜厚量测数值可信度的方法无效
申请号: | 201310566427.3 | 申请日: | 2013-11-13 |
公开(公告)号: | CN103557801A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 顾梅梅;许隽;陈建维;张旭升 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01N21/31 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 陆花 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种提高产品钝化层膜厚量测数值可信度的方法,包括::采用钝化层膜的量测薄膜堆积模型,并通过椭偏仪方法来量测钝化层膜厚量,其中钝化层膜的量测薄膜堆积模型包括从下至上依次直接堆叠的Al层、TiAl3层、TiN层以及氧化物层。椭偏仪方法包括步骤:利用光源发出单色光,随后使单色光经过起偏器产生具有特定光谱的椭偏光,随后将椭偏光入射至产品钝化层表面,此后利用旋转分析仪收集从钝化层表面反射的反射光,此后使反射光进入光谱探测仪进行光谱分析以获取反射光光谱;最后根据量测薄膜堆积模型通过计算椭偏光的特定光谱以及反射光光谱来计算产品钝化层的厚度。 | ||
搜索关键词: | 提高 产品 钝化 层膜厚量测 数值 可信度 方法 | ||
【主权项】:
一种提高产品钝化层膜厚量测数值可信度的方法,其特征在于包括:采用钝化层膜的量测薄膜堆积模型,并通过椭偏仪方法来量测钝化层膜厚量,其中钝化层膜的量测薄膜堆积模型包括从下至上依次直接堆叠的Al层、TiAl3层、TiN层以及氧化物层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310566427.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。