[发明专利]一种微波薄膜电容集成方法有效

专利信息
申请号: 201310567008.1 申请日: 2013-11-14
公开(公告)号: CN103617888A 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: 王斌;宋振国 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十一研究所
主分类号: H01G4/33 分类号: H01G4/33
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 龚燮英
地址: 266555 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提供一种微波薄膜电容集成方法,步骤一:将一个电容分解成若干个电容串联的结构;步骤二:真空镀膜并光刻蚀下电极图形;步骤三:真空镀膜并光刻蚀介质层图形;步骤四:真空镀膜并光刻蚀上电极图形;步骤五:电镀上电极图形及下电极图形。采用上述方案,解决了采用大介电常数、低损耗因数介质材料制作小容值薄膜电容的工艺实现困难问题。
搜索关键词: 一种 微波 薄膜 电容 集成 方法
【主权项】:
一种微波薄膜电容集成方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:将一个电容分解成若干个电容串联的结构;步骤二:真空镀膜并光刻蚀下电极图形;步骤三:真空镀膜并光刻蚀介质层图形;步骤四:真空镀膜并光刻蚀上电极图形;步骤五:电镀上电极图形及下电极图形。
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