[发明专利]一种微波薄膜电容集成方法有效
申请号: | 201310567008.1 | 申请日: | 2013-11-14 |
公开(公告)号: | CN103617888A | 公开(公告)日: | 2014-03-05 |
发明(设计)人: | 王斌;宋振国 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
主分类号: | H01G4/33 | 分类号: | H01G4/33 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 龚燮英 |
地址: | 266555 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供一种微波薄膜电容集成方法,步骤一:将一个电容分解成若干个电容串联的结构;步骤二:真空镀膜并光刻蚀下电极图形;步骤三:真空镀膜并光刻蚀介质层图形;步骤四:真空镀膜并光刻蚀上电极图形;步骤五:电镀上电极图形及下电极图形。采用上述方案,解决了采用大介电常数、低损耗因数介质材料制作小容值薄膜电容的工艺实现困难问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 微波 薄膜 电容 集成 方法 | ||
【主权项】:
一种微波薄膜电容集成方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:将一个电容分解成若干个电容串联的结构;步骤二:真空镀膜并光刻蚀下电极图形;步骤三:真空镀膜并光刻蚀介质层图形;步骤四:真空镀膜并光刻蚀上电极图形;步骤五:电镀上电极图形及下电极图形。
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