[发明专利]安全元件和制造安全元件的方法有效

专利信息
申请号: 201310573934.X 申请日: 2009-04-02
公开(公告)号: CN103631125A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: W·R·汤普金;N·卢茨;M·伯尔克哈德特;M·沙芬伯格 申请(专利权)人: 雷恩哈德库兹基金两合公司
主分类号: G03H1/00 分类号: G03H1/00;G03H1/02;G03H1/04;G03H1/28;B42D25/30
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 俞海舟
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种用以制造安全元件(62)的方法和一种安全元件(62),其为多层薄膜体形式,多层薄膜体具有一面向观察者的正面。安全元件(62)具有一体积全息照相层(12),在其中记录一体积全息照相,该体积全息照相提供一第一光变信息。安全元件(62)具有一复制层(11),在其表面上成型一提供一第二光变信息的凸纹结构并且其设置在体积全息照相层(12)上方。在体积全息照相层(12)与复制层(11)之间设置一局部的金属层(13),其中在安全元件的一个或多个第一区域(31)内设置金属层(13)且在安全元件的一个或多个第二区域(32)内不设置所述金属层(13)。
搜索关键词: 安全 元件 制造 方法
【主权项】:
安全元件(92,95,97),其为多层的薄膜体、特别是层叠薄膜或转印薄膜的形式,具有一面向观察者的正面和一体积全息照相,该体积全息照相提供一第一光变信息;其特征在于,安全元件(92,95,97)具有一复制层(11),在该复制层的表面中成型一凸纹结构(22,23,24),该凸纹结构在一个或多个第一区域(71)内具有大于10μm的凸纹深度并且在一个或多个第二区域(72)内具有小于2μm的凸纹深度,并且凸纹结构(22,23,24)在复制层(11)的第一区域(71)内用一体积全息照相材料填充,在该体积全息照相材料中记录了体积全息照相。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于雷恩哈德库兹基金两合公司,未经雷恩哈德库兹基金两合公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310573934.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top