[发明专利]掺锗硅衬底、其制备方法及包括其的太阳能电池有效
申请号: | 201310573984.8 | 申请日: | 2013-11-15 |
公开(公告)号: | CN103606572A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 王坤 | 申请(专利权)人: | 英利集团有限公司 |
主分类号: | H01L31/0264 | 分类号: | H01L31/0264;H01L31/18 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;张永明 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种掺锗硅衬底、其制备方法及包括其的太阳能电池。该掺锗硅衬底包括P型晶体硅主体,P型晶体硅主体的上表面上具有经锗掺杂形成的第一掺锗区。该掺锗硅衬底在硅衬底的至少上表面上形成掺锗区,在该掺锗区中锗原子的存在,增大了P型晶体硅主体中硼与氧或杂质铁生成B-O复合体和B-Fe复合体的反应能垒。在光照的条件下,硼与氧或杂质铁的复合反应更难进行。这样便能够有效改善太阳能电池因硼的减少而造成的光衰减问题。 | ||
搜索关键词: | 掺锗硅 衬底 制备 方法 包括 太阳能电池 | ||
【主权项】:
一种掺锗硅衬底,其特征在于,包括P型晶体硅主体(10),所述P型晶体硅主体(10)的上表面上具有经锗掺杂形成的第一掺锗区(110)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英利集团有限公司,未经英利集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310573984.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:沥青混合料渗水测试仪
- 下一篇:一种基站地理位置的估算方法及系统
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的