[发明专利]具有集成保护结构的结隔离阻断电压装置及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201310581244.9 申请日: 2013-11-19
公开(公告)号: CN103839941A 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: D·J·克拉克;J·A·塞尔瑟多;B·B·莫阿尼;罗娟;S·穆奈尼;K·K·赫弗南;J·特沃米伊;S·D·赫弗南;G·P·考斯格拉维 申请(专利权)人: 美国亚德诺半导体公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/82
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 金晓
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了结隔离阻断电压装置及其形成方法。在具体实施方式中,阻断电压装置包括电连接至第一p阱的阳极终端、电连接至第一n阱的阴极终端、电连接至第二p阱的接地终端、以及用于隔离第一p阱和p型衬底的n型隔离层。第一p阱和第一n阱操作作为阻塞二极管。阻断电压装置还包括与第一n阱中形成的P+区域、第一n阱、第一p阱和第一p阱中形成的N+区域相关的PNPN硅控整流器(SCR)。此外,阻断电压装置还包括与第一p阱中形成的N+区域、第一p阱、n型隔离层、第二p阱以及第二p阱中形成的N+区域相关的NPNPN双向SCR。
搜索关键词: 具有 集成 保护 结构 隔离 阻断 电压 装置 及其 形成 方法
【主权项】:
一种设备,包括:p型衬底;布置在p型衬底中的第一p型阱,其中第一p型阱包括电连接至第一终端的至少一个p型有源区和至少一个n型有源区;布置在p型衬底中的与第一p型阱邻接的第一n型阱,其中第一n型阱包括电连接至第二终端的至少一个p型有源区和至少一个n型有源区;布置在p型衬底中的第二p型阱,其中第二p型阱包括电连接至第三终端的至少一个p型有源区和至少一个n型有源区;以及处于第一p型阱、第一n型阱以及第二p型阱的至少一部分下方的n型隔离层,其中第一p型阱和第一n型阱被配置成操作作为阻塞二极管,其中第一n型阱的至少一个p型有源区、第一n型阱、第一p型阱以及第一p型阱的至少一个n型有源区被配置成操作作为PNPN硅控整流器,以及其中第一p型阱的至少一个n型有源区、第一p型阱、n型隔离层、第二p型阱和第二p型阱的至少一个n型有源区被配置成操作作为NPNPN双向硅控整流器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美国亚德诺半导体公司,未经美国亚德诺半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310581244.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top