[发明专利]微电子构件和相应的制造方法有效

专利信息
申请号: 201310583569.0 申请日: 2013-09-23
公开(公告)号: CN103663359B 公开(公告)日: 2017-06-09
发明(设计)人: C·舍林;A·法伊 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B81B7/00;B81B3/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 梁冰,杨国治
地址: 德国斯*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提出一种微电子构件和相应的制造方法。该微电子构件包括一半导体衬底(1;1a),其具有正面(O)和背面(R);一在所述衬底(1)的正面(O)上的可弹性偏转的质量装置(M);至少一个设置在所述质量装置(M)中或上的源区(10;10′);至少一个设置在所述质量装置(M)中或上的漏区(D1‑D4;D1′‑D10′)和一在所述源区(10,10′)和所述漏区(D1‑D4;D1′‑D10′)上面悬挂在一印制电路系统(LBA)上的栅区(20;20′),所述栅区通过一间隙(100)与所述质量装置(M)间隔开。所述印制电路系统(LBA)这样地在所述衬底(1)的正面(O)上锚固在所述质量装置(M)的周边(P)上,使得在所述质量装置(M)偏转时所述栅区(20;20′)保持固定。
搜索关键词: 微电子 构件 相应 制造 方法
【主权项】:
微电子构件,具有:一半导体衬底(1;la),其具有一正面(O)和一背面(R);一在所述衬底(1)的正面(O)上的能弹性偏转的质量装置(M);至少一个设置在所述质量装置(M)中或上的源区(10;10');至少一个设置在所述质量装置(M)中或上的漏区(D1‑D4;D1'‑D10');以及至少一个在所述源区(10;10')和所述漏区(D1‑D4;D1'‑D10')上面悬挂在一印制电路系统(LBA)上的栅区(20;20'),所述栅区通过一间隙(100)与所述质量装置(M)间隔开;其中,所述印制电路系统(LBA)这样地在所述衬底(1)的正面(O)上锚固在所述质量装置(M)的周边(P)中,使得所述栅区(20;20')在所述质量装置(M)偏转的情况下保持固定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗伯特·博世有限公司,未经罗伯特·博世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310583569.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top