[发明专利]光学防伪元件及其制造方法有效
| 申请号： | 201310596788.2 | 申请日： | 2013-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN104647935A | 公开（公告）日： | 2015-05-27 |
| 发明（设计）人： | 胡春华;吴远启;董林茂;周赟;张巍巍;张昊宇 | 申请（专利权）人： | 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 |
| 主分类号： | B42D25/29 | 分类号： | B42D25/29;B42D25/30;G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 罗攀;肖冰滨 |
| 地址： | 100070 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学防伪元件及其制造方法，该方法包括：在支撑层上形成第一起伏结构层，该第一起伏结构层包括具有第一微结构的区域；在所述第一起伏结构层的具有第一微结构的区域上形成第一反射层；在所述第一反射层上或所述支撑层的另一侧上形成第二起伏结构层，该第二起伏结构层包括具有第二微结构的区域和该具有第二微结构区域以外的没有起伏结构的平坦区域；以及在所述第二起伏结构层上形成第二反射层。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 防伪 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学防伪元件，其特征在于，该防伪元件包括：支撑层；位于所述支撑层上的第一起伏结构层，该第一起伏结构层包括具有第一微结构的区域；位于所述第一起伏结构层的具有第一微结构的区域上的第一反射层；位于所述第一反射层上以及所述第一起伏结构层的具有第一微结构的区域以外的区域上的第二起伏结构层，该第二起伏结构层包括与所述第一起伏结构层的具有第一微结构的区域对应的具有第二微结构的区域和该具有第二微结构区域以外的没有起伏结构的平坦区域；以及位于所述第二起伏结构层上的第二反射层。
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