[发明专利]静压流体引导装置以及使用了静压流体引导装置的机床有效
申请号: | 201310596820.7 | 申请日: | 2013-11-22 |
公开(公告)号: | CN103846751B | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 大和宏树 | 申请(专利权)人: | 株式会社捷太格特 |
主分类号: | B24B5/35 | 分类号: | B24B5/35;B24B55/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 李洋,苏琳琳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供静压流体引导装置以及使用了静压流体引导装置的机床,该静压流体引导装置具备具有纵引导面(16a、17a)的固定体(19);具有纵滑动面(14a1、14a2)的可动体(14);流体供给装置(33);作用有与间隙(L1)的大小对应的第一流体压力(P1)并以第一作用力(F1)对可动体施力的静压凹部(34);作用有与间隙(L2)的大小对应的第二流体压力(P2)并以第二作用力(F2)对可动体施力的液压凹部(35),第二流体压力(P2)的变化量比第一流体压力(P1)的变化量小,在第一作用力以及第二作用力在水平方向上平衡时,纵引导面(16a)与纵滑动面(14a1)之间的间隙(L1)为设定值。 | ||
搜索关键词: | 静压 流体 引导 装置 以及 使用 机床 | ||
【主权项】:
一种静压流体引导装置,其中,具备:固定体,其具有面向相反方向的一对纵引导面;可动体,其具有分别与所述一对纵引导面对置的一对纵滑动面;流体供给装置;静压凹部,其设置于与所述一对纵引导面中成为基准面的一方的纵引导面对置的一方的纵滑动面,借助所述流体供给装置供给流体而作用有与所述一方的纵引导面和所述一方的纵滑动面之间的间隙的大小对应的第一流体压力,并以第一作用力对所述可动体向另一方的纵引导面的方向施力;液压凹部,其设置于与所述一对纵引导面中所述另一方的纵引导面对置的另一方的纵滑动面,借助所述流体供给装置供给流体而作用有与所述另一方的纵引导面和所述另一方的纵滑动面之间的间隙的大小对应的第二流体压力,并以第二作用力对所述可动体向所述一方的纵引导面的方向施力,相对于所述另一方的纵引导面与所述另一方的纵滑动面之间的所述间隙的变化量的所述第二流体压力的变化量,比相对于所述一方的纵引导面与所述一方的纵滑动面之间的所述间隙的变化量的所述第一流体压力的变化量小,当所述第一作用力和所述第二作用力在水平方向上平衡时,作为所述基准面的所述一方的纵引导面与所述一方的纵滑动面之间的所述间隙为设定值,所述固定体在所述一对纵引导面的各外侧具有一对水平引导面,并且所述可动体具有分别与所述一对水平引导面对置的一对水平滑动面,所述静压凹部的纵向的中心位置被设定为比所述液压凹部的纵向的中心位置低。
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