[发明专利]一种提高MOCVD外延片均匀性的石墨盘

摘要

一种提高MOCVD外延片均匀性的石墨盘，涉及MOCVD外延片生产设备——石墨盘的结构设计。本发明包括大石墨盘和小石墨盘，在大石墨盘上设有通气小孔和连接栓，在小石墨盘中心的背部设置与连接栓适配的支撑凹槽，所述小石墨盘通过支撑凹槽和连接栓的配合布置在大石墨盘上方；在小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽；其特征在于在大石墨盘背面开设圆柱形凹槽，所述凹槽和连接栓布置在同一轴线上。本发明补偿了连接栓导热造成的小盘中心局部温度较高的现象，从而改善小石墨盘的温度差异现象，同时使得小石墨盘上中心片槽和边缘片槽的温度达到一致，最终在小盘上获得均匀性很好的外延片。

主权项

一种提高MOCVD外延片均匀性的石墨盘，包括大石墨盘和小石墨盘，在大石墨盘上设有通气小孔和连接栓，在小石墨盘中心的背部设置与连接栓适配的支撑凹槽，所述小石墨盘通过支撑凹槽和连接栓的配合布置在大石墨盘上方；在小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽；其特征在于在大石墨盘背面开设圆柱形凹槽，所述凹槽和连接栓布置在同一轴线上。