[发明专利]磁流变液回转内表面抛光系统无效
申请号: | 201310599457.4 | 申请日: | 2013-11-25 |
公开(公告)号: | CN103600268A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 曹修全;姚进;刘洋;余德平;吴杰;王万平;童春 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610065 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种磁流变液回转内表面抛光系统,其主要由数控系统、抛光工件、心轴、磁场发生装置和抛光池组成。抛光池中装入适量混有磨料的磁流变液,抛光工件固定在抛光池中,心轴放置于抛光工件回转内表面中,且保证其轴心线与抛光工件回转内表面轴心线重合。当系统工作时,首先打开磁场发生装置,根据程序指令调节回转内表面母线各点磁场力,保证母线各点磨削量大小一致;打开数控主轴,带动心轴转动,使得混有磨料的磁流变液形成的柔性磨头与抛光工件回转内表面发生相对运动,从而对回转内表面进行抛光直至达到要求的抛光精度。本发明公开的磁流变液回转内表面抛光系统通过调节回转内表面母线各点磁场力的大小从而保证回转内表面各母线各点磨削量大小一致,使得加工后的工件内孔粗糙度小且表面均匀度高,加工效率高。 | ||
搜索关键词: | 流变 回转 表面 抛光 系统 | ||
【主权项】:
磁流变液回转内表面抛光系统,其特征在于:主要由数控系统、抛光工件、心轴、磁场发生装置和抛光池组成,其中,1)所述的抛光工件固定于抛光池中;2)所述的心轴轴心线与抛光工件回转内表面轴心线重合,并置于抛光工件回转内表面中;3)所述的磁场发生装置的一极为心轴,另一极沿着回转内表面周向布置,且沿着抛光工件母线各点产生的磁场力大小可调;4)所述的抛光池中装入混有磨料的磁流变液。
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