[发明专利]化合物薄膜太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310601907.9 申请日: 2013-11-25
公开(公告)号: CN104659123B 公开(公告)日: 2018-08-21
发明(设计)人: 唐江;周英;冷美英;刘新胜;韩珺;罗苗 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/072;H01L31/18
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 化合物薄膜太阳能电池及其制备方法,属于半导体光电材料与薄膜太阳能电池制备领域,解决现有化合物薄膜太阳能电池中所需材料在地壳中含量较少、价格昂贵、对人体有毒的问题。本发明的化合物薄膜太阳能电池,包括衬底及透明电极层、N型缓冲层、P型吸收层和背电极层,P型吸收层材料为Sb2Se3、Cu3SbS3或Cu3SbS4;本发明的制备方法包括沉积透明电极层步骤、沉积N型缓冲层步骤、沉积P型吸收层步骤、沉积电极层步骤;还可以加入沉积空穴传导层步骤。本发明中构成P型吸收层的各种材料均选自地壳中资源丰富且不含有毒成分的元素,在制造和使用过程中不会造成环境污染,由它们构成的P型吸收层材料的禁带宽度范围约为0.5ev~2.5ev,光谱响应范围较广,吸光系数高达105cm‑1。
搜索关键词: 化合物 薄膜 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种化合物薄膜太阳能电池的制备方法,该化合物薄膜太阳能电池包括衬底(1)及在其上依次沉积的透明电极层(2)、N型缓冲层(3)、P型吸收层(4)和背电极层(6),其特征在于:所述N型缓冲层(3)为TiO2、CdS、Zn(S,O)、ZnO、In2S3、In2(S,O,OH)3、Sb2S3或BaTiO3材料;所述P型吸收层(4)材料为P型Sb2Se3;该制备方法包括沉积透明电极层步骤、沉积N型缓冲层步骤、沉积P型吸收层步骤、沉积背电极层步骤,其特征在于:一、沉积透明电极层步骤:采用磁控溅射、电阻加热蒸发、电子束蒸发、激光脉冲沉积法在衬底(1)表面沉积透明电极层(2);二、沉积N型缓冲层步骤:采用磁控溅射、电阻加热蒸发、电子束蒸发、激光脉冲沉积、电化学沉积、化学水浴沉积、溶液涂膜、喷雾热解、金属有机化合物化学气相沉积和原子层沉积法在透明电极层(2)上沉积N型缓冲层(3);三、沉积P型吸收层步骤:采用溶液涂膜法将Sb∶Se按照1∶3的比例溶解在肼中形成Sb2Se3前驱体,用涂膜机将Sb2Se3前驱体旋涂在N型缓冲层(3)上,将前驱体置于氮气氛围中,在450℃退火10分钟,形成沉积P型吸收层(4),即可在N型缓冲层(3)上沉积P型吸收层(4);四、沉积背电极层步骤:采用磁控溅射、电阻加热蒸发、喷涂或丝网印刷法,在P型吸收层(4)上沉积背电极层(6),从而制得PN结结构的化合物薄膜太阳能电池。
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