[发明专利]光栅位置的测量方法有效
| 申请号： | 201310603470.2 | 申请日： | 2013-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN103592823A | 公开（公告）日： | 2014-02-19 |
| 发明（设计）人： | 李立文;崔小锋;方佼;周文林 | 申请（专利权）人： | 杭州士兰集成电路有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/00;G01B15/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光栅位置的测量方法，包括：提供一光刻版模板，所述光刻版模板具有刻度尺标记图案；使用所述光栅与所述光刻版模板对一测试样品进行光刻工艺，以在所述测试样品上形成与所述刻度尺标记图案对应的刻度尺标记；将所述刻度尺标记的边缘的刻度与一标准刻度进行比较，以确定光栅位置是否正常。在本发明提供的光栅位置的测量方法中，通过光刻工艺，将所述光刻版模板上的刻度尺标记图案转移到所述测试样品上，使得所述测试样品上具有所述刻度尺标记。通过将所述刻度尺标记的边缘的刻度与所述标准刻度进行比较，可以明确判断光栅位置是否合适，也可以知道光栅位置还有多少移动范围。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 位置 测量方法 | ||
【主权项】：
一种光栅位置的测量方法，其特征在于，包括：提供一光刻版模板，所述光刻版模板具有刻度尺标记图案；使用光栅与所述光刻版模板对一测试样品进行光刻工艺，以在所述测试样品上形成与所述刻度尺标记图案对应的刻度尺标记；将所述刻度尺标记的边缘的刻度与一标准刻度进行比较，以确定所述光栅的位置是否正常；其中，将所述刻度尺标记的边缘的刻度与一标准刻度进行比较的步骤包括；根据所述光栅以及所述光刻版模板设定所述标准刻度；对所述刻度尺标记的边缘的刻度进行读数；若所述刻度尺标记的边缘的刻度在所述标准刻度的范围之内，则所述光栅位置正常；若所述刻度尺标记的边缘的刻度不在所述标准刻度的范围之内，则所述光栅位置不正常。
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