[发明专利]一种基于中性溶液的铁氧体基片的清洗工艺方法有效
| 申请号： | 201310609233.7 | 申请日： | 2013-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN103624028A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 邹延珂;陈彦;王喜生;倪经;周俊;黄豹;曹照亮;李晓静 | 申请（专利权）人： | 西南应用磁学研究所 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/10;B08B3/08 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人： | 胡吉科 |
| 地址： | 621000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 发明涉及微加工领域，其公开了一种基于中性溶液的铁氧体基片的清洗工艺，包括包括如下步骤：打磨基片侧边和非曝光面；将基片平放于器皿中，使用清洗剂在超声波清洗机对基片进行超声处理；将基片放于陶瓷坩埚中，用热水冲洗基片；对基片进行表面微清洗。本发明的有益效果是：可以有效的去除油污等杂质，并且不会与铁氧体基片发生反应，除此之外醇类、酮类无水有机溶剂易于回收，不会对环境造成污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 中性 溶液 铁氧体 清洗 工艺 方法 | ||
【主权项】：
一种基于中性溶液的铁氧体基片的清洗工艺方法，其特征在于:包括如下步骤：（1）打磨基片侧边和非曝光面；（2）将基片平放于器皿中，使用清洗剂在超声波清洗机对基片进行超声处理；（3）将基片放于陶瓷坩埚中，用热水冲洗基片；（4）将基片放于结晶皿中，使用清洗剂在超声波清洗机中清洗正反面各一次；（5）将基片放入盛有去离子水的陶瓷坩埚中，加热至去离子水沸腾，再将基片转移至红外灯下烘烤；（6）对基片进行表面微清洗。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西南应用磁学研究所，未经西南应用磁学研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310609233.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
