[发明专利]边缘曝光装置

摘要

本发明公开了一种边缘曝光装置，包括吸附旋转台，用于吸附和带动硅片旋转；马达，为所述吸附旋转台提供动力；边缘曝光镜头组件，包括边缘曝光镜头和曝光光斑监控镜头；所述边缘曝光镜头沿光传播方向依次包括曝光光源，第一、第二复眼透镜，正交放置的第一柱面变倍镜组和第二柱面变倍镜组以及分光镜；以及控制器，用于控制马达、边缘曝光镜头和曝光光斑监控镜头动作。本发明通过对第一和第二柱面变倍镜组的组合焦距的分别调节，来分别控制边缘曝光场的长、宽尺寸，通过第一、第二复眼透镜与第一、第二柱面变倍镜组配合获得曝光场，通过同轴的对曝光场光斑的成像或能量探测光路实现自动对焦、曝光剂量和曝光尺寸的监控功能。

主权项

一种边缘曝光装置，包括：吸附旋转台，用于吸附和带动硅片旋转，从而进行边缘曝光；马达，为所述吸附旋转台提供动力；边缘曝光镜头组件，包括边缘曝光镜头和曝光光斑监控镜头，用于对硅片边缘的光刻胶进行曝光和监控，并反馈曝光参数；所述边缘曝光镜头沿光传播方向依次包括：曝光光源，第一、第二复眼透镜，正交放置的第一柱面变倍镜组和第二柱面变倍镜组以及分光镜；曝光光源产生的光束经由第一、第二复眼透镜分波面匀光后，由第一、第二柱面变倍镜组变倍和调整光束大小，再经分光镜，照射在硅片边缘和曝光光斑监控镜头上；控制器，分别与所述马达和边缘曝光镜头组件连接，并控制马达、边缘曝光镜头和曝光光斑监控镜头动作；以及硅片边缘曝光场为长方形，其长度和宽度至少其中之一为可调的，其满足：DFT=PLA1*fFLfLA1*fLA2*(fLA1+fLA2)-D12]]>其中，DFT为曝光场的长度或宽度；PLA1为第一复眼透镜的微透镜间距；fLA1、fLA2分别为第一、第二复眼透镜的焦距；fFL为第一柱面变倍镜组或第二柱面变倍镜组的组合焦距；D12为第一、第二复眼透镜的间距。