[发明专利]基于旋转达曼光栅的多路并行激光直写装置和方法有效
申请号: | 201310613255.0 | 申请日: | 2013-11-27 |
公开(公告)号: | CN103676499A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 周常河;黄巍;麻健勇;朱锋;刘昆;李树斌;王津 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B5/18 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种基于旋转达曼光栅的多路并行激光直写装置和方法。该装置包括激光刻写光路、自聚焦模块和电子控制模块;该装置充分利用达曼光栅分束的特点,实现了并行直写光栅;通过旋转一维达曼光栅,来实现变周期刻写光栅;通过旋转二维达曼光栅,能上千倍地提高刻写速度,从而实现更高效更快速的刻写。本装置适用于刻写大面积高密度的光栅。 | ||
搜索关键词: | 基于 旋转 光栅 并行 激光 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种基于旋转达曼光栅的多路并行激光直写装置,其特征在于该装置包括激光刻写光路、自聚焦模块和电子控制模块;所述的激光刻写光路依次包括405nm蓝光激光器(1)、小孔光阑(2)、阔束透镜组(3)、装有达曼光栅的精密转台(4)、阔束透镜(5)、渐变折射滤波片(6)、阔束透镜(7)、反射镜(8)、光谱分光镜(9)、显微物镜(11),光束经过显微物镜(11)后聚焦在水平调平台(13)上的待刻写的光栅模板(12)上;所述的自聚焦模块包括红光光纤激光器(15)、偏振分光棱镜(16)、四分之一波片(17)、光谱分光镜(9)、滤光片(18)、透镜(19)、柱面透镜(20)和四象限探测器(21),所述的红光光纤激光器(15)输出的激光经偏振分光棱镜(16)反射后经四分之一波片(17)由线偏振光变成圆偏振光,经过光谱分光镜(9)、显微物镜(11)后照射在水平调平台(13)上的待刻写光栅模板(12)上,被待刻写光栅模板(12)反射后的信号光沿原光路返回,经所述的四分之一波片(17)变成与原光束偏振方向垂直的线偏振光,后透过所述的偏振分光棱镜(16)、滤光片(18)、透镜(19)、柱面透镜(20)由所述的四象限探测器(21)采集信号;所述的电子控制模块包括计算机(22)及计算机(22)控制的压电陶瓷(10)、精密移动平台(14),所述的水平调平台(13)置于所述的精密移动平台(14)上,所述的计算机(22)的输入端与所述的四象限探测器(21)的输出端相连。
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