[发明专利]激光化学气相沉积装置

摘要

本发明公开了一种激光化学气相沉积装置，包括沉积腔以及设于沉积腔内的基板座，基板座上设有基板，基板座上方设有喷头，喷头通过管道分别输入载流气和原料气，沉积腔下部设有泵，所述的沉积腔上部设有第一光学窗口，第一光学窗口外设有用于调整激光光斑能量分布与光斑大小的光学扩束系统，光学扩束系统通过光纤连接连续激光器；本发明将连续激光引入CVD的沉积腔体，直接照射基板表面，以加快材料生长速度，连续激光由激光器射出后，经光学扩束系统整形成具有能量超高斯分布的光斑，直接以激光用材料的生长提供能量，材料的生长速度高于传统CVD技术1－4个数量级，设备结构较之于传统CVD简单，能够生产直径大于100毫米的材料。

主权项

一种激光化学气相沉积装置，包括沉积腔（11）以及设于沉积腔（11）内的基板座（9），基板座（9）上设有基板（8），基板座（9）上方设有喷头（13），喷头（13）通过管道输入载流气和原料气（21，22），沉积腔（11）下部设有泵（10），其特征在于：所述的沉积腔（11）上部设有第一光学窗口（72），第一光学窗口（72）外设有用于调整激光光斑能量分布与光斑大小的光学扩束系统（12），光学扩束系统（12）通过光纤连接连续激光器；所述的沉积腔（11）上部还设有第二光学窗口（71），第二光学窗口（71）外设有光学测温系统（6）。