[发明专利]一种青椒无土栽培方法在审
申请号: | 201310621419.4 | 申请日: | 2013-11-30 |
公开(公告)号: | CN104663383A | 公开(公告)日: | 2015-06-03 |
发明(设计)人: | 姜鸿杰 | 申请(专利权)人: | 青岛中天信达生物技术研发有限公司 |
主分类号: | A01G31/00 | 分类号: | A01G31/00 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 266706 山东省青*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种青椒无土栽培方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)种子预处理;(2)配营养基质;(3)育苗;(4)配制营养液;(5)喷营养液。本发明配制的营养液能保持营养平衡状态,供给植物持续地、有选择地吸收营养。基质中的珍珠岩多孔,具有吸附能力,具有良好保水透气功能,多菌灵可杀死基质中的大部分细菌;本发明的基质无污染、无公害,有效保证产量和品质;方法易操作,成本低,收获的青椒体积增大,果肉变厚,耐贮存,具有良好的经济利益。 | ||
搜索关键词: | 一种 青椒 无土栽培 方法 | ||
【主权项】:
一种青椒无土栽培方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)种子预处理:将青椒种子在22‑35℃下,放入浓度为0.5‑0.6mg/ml的高锰酸钾溶液中浸泡30‑35min,取出,在温度25‑35℃且黑暗下萌发;(2)配营养基质:按照质量比为1:1:2:2取蛭石、珍珠岩、泥炭、棕糠混合均匀,加入20‑25%鸡粪,用浓度为0.3‑0.5mg/L的多菌灵溶液喷洒基质;(3)育苗:将预处理后的种子播种在营养基质中,深度为2cm,小苗长到4片叶龄时,开始进入营养生长阶段;(4)配制营养液:按照浓度为mg/L取硝酸铵6‑8、磷酸铵4‑6、氯化钾3‑5、硫酸镁0.3‑0.5、硫酸锌0.06‑0.08、硫酸亚铁0.02‑0.04组成混合营养液,将PH值控制在5‑6范围内;(5)喷营养液:根据作物长势不断补充上述制得的营养液,控制光照强度2000‑3500lux,光照4‑5小时/天,幼苗长6‑10cm高时,定植。
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