[发明专利]一种手机电池盖的镭雕工艺

摘要

本发明涉及镭雕技术领域，具体涉及一种手机电池盖的镭雕工艺。一种手机电池盖的镭雕工艺，包括以下步骤：步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为20℃~30℃，环境的湿度设置为40%~70%；步骤二、利用金属片调整焦距，其中，金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距；步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率；步骤五、镭雕产品。该手机电池盖的镭雕工艺，能够使得所镭雕的产品表面不会出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，从而能够提高产品的外观质量，降低废品率，从而降低生产成本。

主权项

一种手机电池盖的镭雕工艺，其特征在于：它包括以下步骤：步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为20℃~30℃，所述环境的湿度设置为40%~70%；步骤二、利用金属片调整焦距：将一块金属片放置于所述镭雕机的工作台面，然后将所述镭雕机的激光发射器发出的激光照射在所述金属片的表面，然后调整所述激光发射器与所述金属片的表面之间的距离以使所述激光发射器发出的激光照射在所述金属片的表面发出最亮光，然后将所述金属片移出所述工作台面；其中，所述金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距：测量待镭雕的产品的最高镭雕面和最低镭雕面之间的差距，将所测得的所述差距除以2得出中间值，然后将所述激光发射器向下调降所述中间值对应的距离；步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率：将所述镭雕机的镭雕速度设置为7800mm/s~8200mm/s，镭雕功率设置为35W~45W；步骤五、镭雕产品：将所述待镭雕的产品放置于所述工作台面，然后进行镭雕所述产品。