[发明专利]制备氧化锌薄膜的方法无效
申请号: | 201310625110.2 | 申请日: | 2013-11-28 |
公开(公告)号: | CN103849854A | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 尹根尚;金序炫;李铉熙;刘泳祚 | 申请(专利权)人: | 三星康宁精密素材株式会社 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种制备氧化锌(ZnO)薄膜的方法,其中ZnO薄膜的表面形状可在ZnO薄膜的沉积过程中得到控制。该方法包括:通过化学气相沉积法(CVD)在基板上沉积ZnO薄膜。CVD在供应源气体和氧化剂气体的同时,供应蚀刻ZnO薄膜的蚀刻气体,从而控制正在沉积的氧化锌薄膜的表面形状。 | ||
搜索关键词: | 制备 氧化锌 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
一种制备氧化锌薄膜的方法,包括通过化学气相沉积法在基板上沉积氧化锌薄膜,其中所述化学气相沉积法包括在供应源气体和氧化剂气体的同时,供应蚀刻所述氧化锌薄膜的蚀刻气体,从而控制正在沉积的氧化锌薄膜的表面形状。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的