[发明专利]具有可变电阻层的电阻式随机存取存储器及其制造方法无效
申请号: | 201310625348.5 | 申请日: | 2013-11-28 |
公开(公告)号: | CN103855181A | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 朱玄洙;金恩美;申有哲;梁民圭;崔正达 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;H01L45/00;G11C13/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 翟然 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供电阻式存储器件,该电阻式存储器件包括:栅叠层,包括在竖直方向上层叠在基板上的模制绝缘层和栅极;沟道,在竖直方向上穿透栅叠层以电连接到基板;栅绝缘层,提供在沟道和栅极之间;以及沿着沟道的延伸方向设置的可变电阻层。栅叠层可以包括通过使栅极在水平方向上凹入而形成的凹穴。可变电阻层可以朝向凹穴在水平方向延伸并且与栅极中的至少一个在水平方向上重叠。还提供了相关的方法。 | ||
搜索关键词: | 具有 可变 电阻 随机存取存储器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种电阻式存储器件,包括:栅叠层,包括竖直地层叠在基板上的模制绝缘层和栅极;沟道,在竖直方向上穿透所述栅叠层并且电连接到所述基板;栅绝缘层,提供在所述沟道和所述栅极之间;以及在所述沟道上的可变电阻层,其中所述栅叠层中的所述栅极限定凹穴,所述凹穴通过使所述栅极在水平方向上凹入而形成;以及其中所述可变电阻层朝向所述凹穴在所述水平方向延伸并且与所述栅极中的至少一个在所述水平方向上重叠。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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