[发明专利]清洁光掩模板的装置和方法有效
| 申请号： | 201310625604.0 | 申请日： | 2013-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN103639151A | 公开（公告）日： | 2014-03-19 |
| 发明（设计）人： | 毛智彪 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/00 | 分类号： | B08B5/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制造装备技术领域，尤其是一种清洁光掩模板的装置以及清洁方法。该装置包括具有排气口的腔体；位于所述腔体内的用于固定待清洁光掩模板的平台；能够平行于光掩模板表面移动的喷管，所述喷管具有沿着其长度延伸方向布置的一组喷嘴，所述喷管与含离子气溶剂的产生装置连接；所述平台连接静电导出通道实现电位接地。本发明在有效去除光掩模板表面的微尘和沾污的同时，高效地去除了光掩模板表面的静电，避免了静电释放对光掩模板的损伤，提高了去除光掩模板表面微尘和沾污的效率，可以有效地延长光掩模在生产中的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 模板 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种清洁光掩模板的装置，其特征在于包括：具有排气口的腔体；位于所述腔体内的用于固定待清洁光掩模板的平台；能够平行于光掩模板表面移动的喷管，所述喷管具有沿着其长度延伸方向布置的一组喷嘴，所述喷管与含离子气溶剂的产生装置连接；所述平台连接静电导出通道实现电位接地。
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