[发明专利]一种柔性金属光子晶体的制备方法有效

专利信息
申请号: 201310625647.9 申请日: 2013-11-28
公开(公告)号: CN103698846A 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 张新平 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: G02B6/13 分类号: G02B6/13;B82Y20/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张慧
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种柔性金属光子晶体的制备方法,属于纳米光子材料及器件技术领域。在缓冲层基体的缓冲层上制备光刻胶纳米光栅结构,将金纳米颗粒胶体溶旋涂在光栅表面并限制到光栅凹槽中,加热处理使金表面的有机配合基升华,金纳米颗粒熔融,形成金属光子晶体;混有固化剂的柔性衬底液涂到金属光子晶体上,盖上另一片缓冲层基体,加热进行交联聚合,置于盐酸或硫酸溶液中,使缓冲层充分溶解,得到的样品用蒸馏水清洗即可。本发明器件对于开发应力、形变传感器,新型柔性光电子器件具有重要的直接应用价值。
搜索关键词: 一种 柔性 金属 光子 晶体 制备 方法
【主权项】:
一种基于柔性衬底的金属光子晶体制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在平板基体上制备缓冲层,得到缓冲层基体,在缓冲层上再制备光刻胶(PR)纳米光栅结构;(2)将化学合成的金纳米颗粒(Au NP)在二甲苯中形成胶体溶液,将金纳米颗粒的二甲苯胶体溶液旋涂在步骤(1)光刻胶纳米光栅的表面,在表面张力作用下,金纳米颗粒被限制到光栅凹槽中;(3)将步骤(2)制备的缓冲层基体上的样品在200‑450℃马弗炉中热处理后,使得金纳米颗粒表面的有机配合基升华,金纳米颗粒充分熔融,全部进入光栅凹槽中,并沿光栅凹槽形成连续的金纳米线,在缓冲层基体的表面成功制备了金纳米线阵列构成的金属光子晶体;(4)将混有固化剂的柔性衬底液涂布在步骤(3)制备的金属光子晶体表面,然后上方再盖上另一片缓冲层基体,并使缓冲层面与柔性衬底液接触,在两片缓冲层基体间的两边用硅橡胶垫支撑,以保证获得厚度均匀、可控的柔性衬底;(5)将步骤(4)中制得的样品在100‑120℃加热,完成柔性衬底交联聚合反应;(6)将步骤(5)获得的样品置于盐酸或硫酸溶液中,使得上下两基体上的缓冲层充分溶解,柔性衬底及其上紧密结合的金属光子晶体彻底地从基体上脱离下来;(7)最后将步骤(6)得到的柔性器件用蒸馏水清洗,去除残存酸液和可能产生的杂质,获得独立的柔性器件,完成柔性金属光子晶体的制备;基体采用不溶于盐酸、硫酸等溶液且能经受450℃以下的热处理工艺过程的透明材料;缓冲层的材料为溶于盐酸或硫酸的金属、金属氧化物材料,并能够通过热蒸镀、磁控溅射或脉冲激光沉积工艺过程制备在平板基体上。
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