[发明专利]冷喷涂制备可见光响应TiO2光催化涂层的方法及设备有效

专利信息
申请号: 201310626680.3 申请日: 2013-11-28
公开(公告)号: CN103602976A 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 沈艳芳;熊天英;吴杰 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C23C24/08 分类号: C23C24/08;B01J21/06
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 张志伟
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及功能涂层制备技术领域,具体涉及一种冷喷涂制备可见光响应TiO2光催化涂层的方法及设备。该方法以可见光响应型TiO2粉末为喷涂原料,采用粉末加热冷喷涂技术在金属基体或非金属基体上制备成分稳定、结合良好的可见光响应型TiO2光催化涂层,可见光响应型TiO2光催化涂层的厚度为5~50μm。采用带有粉末加热装置的冷喷涂设备,粉末加热装置位于送粉器与De Laval喷嘴之间,对送粉器输出的喷涂粉末进行加热。本发明采用粉末加热冷喷涂技术是制备可见光响应型二氧化钛涂层的有效方法,该方法无需高温、高压等苛刻条件,仅在中温中压条件下使用压缩气体就可以实现二氧化钛涂层的沉积。
搜索关键词: 喷涂 制备 可见光 响应 tio sub 光催化 涂层 方法 设备
【主权项】:
一种冷喷涂制备可见光响应TiO2光催化涂层的方法,其特征在于:该方法以可见光响应型TiO2粉末为喷涂原料,采用粉末加热冷喷涂技术在金属基体或非金属基体上制备可见光响应型TiO2光催化涂层,可见光响应型TiO2光催化涂层的厚度为5~50μm。
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