[发明专利]一种光学耦合装置及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201310627800.1 申请日: 2013-11-29
公开(公告)号: CN103605192A 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 陈征;习华丽;石川;梁雪瑞;马卫东 申请(专利权)人: 武汉光迅科技股份有限公司
主分类号: G02B6/42 分类号: G02B6/42;G02B6/43
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春
地址: 430205 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种光学耦合装置及其制作方法,发明装置包括出光单元(1)、受光单元(2),所述受光单元(2)上设置有耦合单元(3),所述耦合单元(3)材料采用包含高分子聚合物的透明、液态透光材料,其形状为透镜曲面形状,所述耦合单元(3)、受光单元(2)同出光单元(1)的光路对准;制作方法包括如下步骤:在受光单元的受光表面涂上一层主要成分是高分子聚合物的液态透光材料;使液态透光材料在受光表面形成透镜的曲面形状;使透光材料达到固化条件而固化成型,形成耦合单元;将出光单元与受光单元的光路对准、固定;采用本发明装置可以减小因为出射光的光学元件模场与接收光的光学元件模场不匹配造成的直接耦合损耗。
搜索关键词: 一种 光学 耦合 装置 及其 制作方法
【主权项】:
一种光学耦合装置,包括出光单元(1)、受光单元(2),其特征在于:所述受光单元(2)上设置有耦合单元(3),所述耦合单元(3)材料采用包含高分子聚合物的透明、液态透光材料,其形状为透镜曲面形状,所述耦合单元(3)、受光单元(2)同出光单元(1)的光路对准。
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