[发明专利]一种薄膜太阳能电池的非晶硅锗制备在审

专利信息
申请号: 201310628921.8 申请日: 2013-12-02
公开(公告)号: CN104681671A 公开(公告)日: 2015-06-03
发明(设计)人: 谭秀航 申请(专利权)人: 青岛事百嘉电子科技有限公司
主分类号: H01L31/20 分类号: H01L31/20;H01L21/205
代理公司: 代理人:
地址: 266700 山东省青岛*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种薄膜太阳能电池的非晶硅锗制备,其技术方案是:研究氢稀释率和衬底温度对薄膜光电性能的影响。通过二者的优化制备出光学带隙1.5eV、光敏性6×104的高质量非晶硅锗薄膜。在此基础上制备出效率为6.65%的非晶硅锗(a.SiGe:H)单结太阳能电池。本发明的优点是:研究RF—PECVD工艺中二者对a.SiGe:H材料光电性能的影响,以制备高质量的a.SiGe:H薄膜,并在此基础上制a-SiGe:H电池。
搜索关键词: 一种 薄膜 太阳能电池 非晶硅锗 制备
【主权项】:
一种薄膜太阳能电池的非晶硅锗制备,其特征是:利用射频等离子体增强化学气相沉积工艺(RF—PECVD)制备非晶硅锗薄膜制备高质量a.SiGe:H材料。
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