[发明专利]一种旋转横向磁场耦合轴向磁场辅助电弧离子镀装置有效
申请号: | 201310632153.3 | 申请日: | 2013-11-28 |
公开(公告)号: | CN103643213A | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 赵彦辉;肖金泉;于宝海 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明属于材料表面改性领域,具体为一种旋转横向磁场耦合轴向磁场辅助电弧离子镀装置。该装置的真空室内设置工件台、靶材,靶材正面与工件台相对;置于靶材后面的轴向磁场发生装置套在法兰或支撑圆筒上,与法兰或支撑圆筒之间通过绝缘保护;置于真空室外的旋转横向磁场发生装置套在靶材外侧的法兰或支撑圆筒上,与法兰或支撑圆筒之间通过绝缘保护;置于等离子体传输通道的轴向磁场发生装置套在真空室外侧的法兰或支撑圆筒上,与法兰或支撑圆筒之间通过绝缘保护。本发明通过旋转横向磁场控制弧斑的运动,改善弧斑的放电形式,提高弧斑运动速度及靶材表面大颗粒的发射,同时通过轴向磁场约束等离子体传输,提高等离子体的密度和利用率。 | ||
搜索关键词: | 一种 旋转 横向 磁场 耦合 轴向 辅助 电弧 离子镀 装置 | ||
【主权项】:
一种旋转横向磁场耦合轴向磁场辅助电弧离子镀装置,其特征在于,该电弧离子镀装置设有靶材、旋转横向磁场发生装置、两套轴向磁场发生装置、真空室;真空室内设置工件台、靶材,靶材正面与工件台相对;旋转横向磁场发生装置放置于真空室外,套在靶材外侧的法兰或支撑圆筒上,与法兰或支撑圆筒之间通过绝缘保护;轴向磁场发生装置一套放置于靶材后面,由放置于靶材后面的电磁线圈组成;轴向磁场发生装置另一套置于等离子体传输通道的真空室外侧的法兰或支撑圆筒上,由电磁线圈组成,与法兰或支撑圆筒之间通过绝缘保护。
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