[发明专利]液压转印用基膜有效
申请号: | 201310634762.2 | 申请日: | 2013-12-03 |
公开(公告)号: | CN103847412B | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 高藤胜启;矶崎孝德;练苧乔士 | 申请(专利权)人: | 株式会社可乐丽 |
主分类号: | B44C1/175 | 分类号: | B44C1/175 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 高旭轶;孟慧岚 |
地址: | 日本冈山县*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及液压转印用基膜。提供一种能形成能充分防止漂浮在液面上时的卷曲、转印效率优异的液压转印用膜的液压转印用基膜及其制造方法。本发明是含有聚乙烯醇和含仲烷基的表面活性剂的液压转印用基膜以及液压转印用基膜的制造方法,该方法包括使用含有聚乙烯醇和含仲烷基的表面活性剂的制膜原液进行制膜的工序。液压转印用基膜中,相对于100质量份的聚乙烯醇,优选含有0.05~4质量份的含仲烷基的表面活性剂,此外,至少一个面的算数平均粗糙度(Ra)优选为400nm以下。 | ||
搜索关键词: | 液压 转印用基膜 | ||
【主权项】:
1.液压转印用基膜,其含有聚乙烯醇和含仲烷基的表面活性剂,所述含仲烷基的表面活性剂由下式(I)表示,式(I)中,R1和R2分别表示碳数1~18的烷基,R3表示单键或碳数1~10的亚烷基,f表示0或1,R4表示碳数1~4的亚烷基,n表示1~20的整数,作为式(I)的部分结构的下式(I’)表示的部分结构整体的碳数设为m时,满足1≤m‑n≤9的关系,[化2]式(I’)中,R1、R2和R3的含义与上文中相同。
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