[发明专利]一种具有边缘隔离结构的硅衬底无效
| 申请号： | 201310640318.1 | 申请日： | 2013-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN103746051A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 王立;江风益 | 申请（专利权）人： | 南昌大学;南昌黄绿照明有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/02 | 分类号： | H01L33/02 |
| 代理公司： | 江西省专利事务所 36100 | 代理人： | 张文 |
| 地址： | 330029 *** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有边缘隔离结构的硅衬底，包括硅衬底本体，特征是：在硅衬底边缘设有将硅衬底内部完全封闭的隔离带，隔离区为隔离带和硅衬底边界线之间的区域，隔离带和隔离区构成隔离结构。本发明通过在硅衬底边缘设置隔离带，隔离带将硅衬底上生长的氮化物薄膜被分离成相互独立的两部分，使得始发于氮化物薄膜边缘的裂纹不能传递到硅衬底内部，从而有效保障了被隔离带硅包围的衬底内部的氮化物薄膜的质量，且不会损害其有效使用面积。本发明将隔离带和硅衬底边界线之间的隔离区进行图形化，使隔离区成为图形化的隔离区，这样可以进一步减少隔离区内裂纹的产生、限制裂纹的传递，增强本发明的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 边缘 隔离 结构 衬底 | ||
【主权项】：
一种具有边缘隔离结构的硅衬底，包括硅衬底本体，其特征在于：在硅衬底边缘设有将硅衬底内部完全封闭的隔离带，隔离区为隔离带和硅衬底边界线之间的区域，隔离带和隔离区构成隔离结构。
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