[发明专利]高温气冷堆检修的放射性气氛隔离工艺有效

专利信息
申请号: 201310641701.9 申请日: 2013-12-03
公开(公告)号: CN103680651A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 刘凌;魏利强;陈晓明;王宇澄 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G21C19/00 分类号: G21C19/00;G21C19/20
代理公司: 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 代理人: 哈达
地址: 100084 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种高温气冷堆检修的放射性气氛隔离工艺,包括:用一第一隔离膜将氦气循环风机压力壳和蒸汽发生器压力壳围住,密封所述第一隔离膜;将所述氦气循环风机与所述蒸汽发生器分离,且分离所述第一隔离膜使所述第一隔离膜和所述蒸汽发生器压力壳形成一密封的空间,将所述氦气循环风机移至检修位;将一气囊放置在所述蒸汽发生器压力壳法兰开口处的所述第一隔离膜上,利用所述气囊将所述法兰开口密封;用一第二隔离膜将所述氦气循环风机压力壳和所述蒸汽发生器压力壳围住,密封所述第二隔离膜;以及卸下所述气囊和所述第一隔离膜,回装所述氦气循环风机。
搜索关键词: 高温 气冷 检修 放射性 气氛 隔离工艺
【主权项】:
一种高温气冷堆检修的放射性气氛隔离工艺,包括以下步骤:用一第一隔离膜将氦气循环风机压力壳和蒸汽发生器压力壳围住,密封所述第一隔离膜;将所述氦气循环风机与所述蒸汽发生器分离,且分离所述第一隔离膜使所述第一隔离膜和所述蒸汽发生器压力壳形成一密封的空间,将所述氦气循环风机移至检修位;将一气囊放置在所述蒸汽发生器压力壳法兰开口处的所述第一隔离膜上,利用所述气囊将所述法兰开口密封;用一第二隔离膜将所述氦气循环风机压力壳和所述蒸汽发生器压力壳围住,密封所述第二隔离膜;以及卸下所述气囊和所述第一隔离膜,回装所述氦气循环风机。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310641701.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top